5334 - 電漿蝕刻技術專題 英授 Taught in English
Special Topic on Plasma Etching Technology
教育目標 Course Target
1. 培育學生半導體製程能力
2. 了解電漿蝕刻的工作原理
3. 因應日後課業或研究所需
1. Cultivate students' semiconductor processing capabilities
2. Understand how electric etching works
3. As required for future courses or research
參考書目 Reference Books
作者 : Dennis M. Manos, and Daniel L. Flamm
書名 : Plasma Etching: An Introduction
版本 : 1 edition
出版商 : Academic Press
出版年份 : 1989
Author: Dennis M. Manos, and Daniel L. Flamm
Book name: Plasma Etching: An Introduction
Version: 1 edition
Publisher: Academic Press
Year of publication: 1989
評分方式 Grading
| 評分項目 Grading Method |
配分比例 Percentage |
說明 Description |
|---|---|---|
|
出席 Attend |
50 | |
|
專題論文報告 Special Profile Report |
50 |
授課大綱 Course Plan
點擊下方連結查看詳細授課大綱
Click the link below to view the detailed course plan
相似課程 Related Courses
無相似課程 No related courses found
課程資訊 Course Information
基本資料 Basic Information
- 課程代碼 Course Code: 5334
- 學分 Credit: 3-0
-
上課時間 Course Time:Tuesday/10,11,12[ST132]
-
授課教師 Teacher:黃家逸
-
修課班級 Class:應物系3,4,碩博
-
選課備註 Memo:大3、4可選修；人工選課
交換生/外籍生選課登記
請點選上方按鈕加入登記清單，再等候任課教師審核。
Add this class to your wishlist by clicking the button above.