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應用物理學系
course information of 106 - 1 | 5334 Special Topic on Plasma Etching Technology(電漿蝕刻技術專題)

5334 - 電漿蝕刻技術專題 Special Topic on Plasma Etching Technology


教育目標 Course Target

1. 培育學生半導體製程能力 2. 了解電漿蝕刻的工作原理 3. 因應日後課業或研究所需1. Cultivate students' semiconductor manufacturing capabilities 2. Understand the working principle of plasma etching 3. In response to future school or research needs


參考書目 Reference Books

作者 : Dennis M. Manos, and Daniel L. Flamm
書名 : Plasma Etching: An Introduction
版本 : 1 edition
出版商 : Academic Press
出版年份 : 1989


By Dennis M. Manos, and Daniel L. Flamm
Title: Plasma Etching: An Introduction
Version: 1 edition
Publisher: Academic Press
Year of publication: 1989


評分方式 Grading

評分項目 Grading Method 配分比例 Grading percentage 說明 Description
出席出席
attend
50
專題論文報告專題論文報告
Monograph report
50
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Course Information

Description

學分 Credit:3-0
上課時間 Course Time:Tuesday/10,11,12[ST132]
授課教師 Teacher:黃家逸
修課班級 Class:應物系3,4,碩博
選課備註 Memo:大3、4可選修;人工選課

選課狀態 Attendance

There're now 14 person in the class.
目前選課人數為 14 人。

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