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應用物理學系
course information of 106 - 1 | 5331 Special Topics on Thin Film and Materials Characterization(薄膜與材料分析技術專題(一))

5331 - 薄膜與材料分析技術專題(一) Special Topics on Thin Film and Materials Characterization


教育目標 Course Target

介紹固體薄膜沉積技術及原理,並透過專題實作熟悉相關製程技術及特性分析 1. 簡介 2. 薄膜形成的熱力學機制 3. 表面動力學 4. 真空技術 5. 蒸鍍 6. 濺鍍 7. 化學氣相沉積 8. 材料分析技術 9. SEM 10. TEM 11. XRD 12. RamanIntroduction of solid film deposition technology and principles, and through the implementation of the topic familiar with the relevant process technology and characteristics analysis 1 Introduction 2. The thermodynamic mechanism of film formation 3. Surface dynamics 4. Vacuum technology 5. Vapor deposition 6. Sputtering Chemical vapor deposition 8. Material Analysis Technology 9. SEM 10. TEM XRD 12. Raman


參考書目 Reference Books

1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P.Herman, 1996, Academic Press
3. 講義
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)
1. Thin Film Deposition Principle and practice, Donald L. Smith, 1995, McGraw-Hill Inc.
2. Optical Diagnostics for Thin Film Processing, Irving P. Human, 1996, Academic Press
3. Handouts
4. Introduction to solid state physics 8 edition (Charles Kittle)


評分方式 Grading

評分項目 Grading Method 配分比例 Grading percentage 說明 Description
平常成績平常成績
Normal grade
40 包括出席, 作業,問答
報告報告
report
40 專題書面及口頭報告
小考小考
Quiz
20 隨堂小考
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Course Information

Description

學分 Credit:3-0
上課時間 Course Time:Wednesday/12,Friday/10,11[BS508A]
授課教師 Teacher:蕭錫鍊
修課班級 Class:應物系3,4,碩博
選課備註 Memo:大3、4可選修;人工選課

選課狀態 Attendance

There're now 14 person in the class.
目前選課人數為 14 人。

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